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[原创]:规、抗规、砼规的约束边缘构件为何不同

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发表于 2005-4-19 07:35:29 | 显示全部楼层 |阅读模式

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砼规中11.7.15.2中"对暗柱不应小于LC和BW乘积的1.2%",而抗规中6.4.7,高规中7.2.16均规定为"阴影面积(即λV与BW乘积的区域),的1.2%",另外本人个人理解,计算约束边缘构件纵筋或构造纵筋均设在λV区域,那么λV/2的区域的纵筋呢?
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发表于 2005-4-19 14:42:21 | 显示全部楼层
砼规不适用于高层
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 楼主| 发表于 2005-4-19 21:33:09 | 显示全部楼层
为什么砼规不适用于高规呢?那么高规中不用砼,高规1.0.6条又是什么意思?
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发表于 2005-4-20 09:41:35 | 显示全部楼层
这问题我们院内曾讨论过,的确,砼规单独抽出暗柱与其他端柱等不同对待是说不过去,与抗规明显冲突,比高规还强难以说得通,应该是砼规有误.
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